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关于EUV的所有信息
缩短波长是持续扩展光学微影技术的一种选择

现在正是再次探讨缩短波长并了解其优缺点的时候了。我们不知道13.5nm和1nm之间的最佳选择,所以我将这种新技术选项称为Blue-X——其波长大约介于深蓝极紫外光(EUV)微影和X射线之间。

全球半导体业下行周期还将持续,中国成最大不确定性因素?
全球半导体业下行周期还将持续,中国成最大不确定性因素?

鉴于半导体行业目前明显处于下行周期(当然也会有一些作妖的“地平说协会”成员反对这个结论),大部分投资者和业内人士都迫切地想知道本轮下行周期将持续多长时间,以及它将以什么样子的形式恢复增长,以指导安全的股票购买。我们还试图预测行业复苏时的回温速度,以评估行业及业内公司股票的增长。

台积电释放十大信号,对EDA、IP、IC设计和半导体设备商将产生怎样的影响?
台积电释放十大信号,对EDA、IP、IC设计和半导体设备商将产生怎样的影响?

台积电OIP论坛透露的关键信息是N7+和N5工艺节点的进展迅速,而且EUV的引入也不存在太多技术障碍。N5具有全新的物理和电气特性,可能会影响单元设计、APR和单元特征化。

格芯放弃7nm芯片工艺研发,原因何在?

八月下旬,第二大芯片代工厂GlobalFoundries宣布停止对7纳米制造工艺的研发,从而结束了其向摩尔定律极限的攀登。

GlobalFoundries CTO首谈放弃7nm工艺:14/12nm就够我们忙的了

八月下旬,第二大芯片代工厂GlobalFoundries宣布停止对7纳米制造工艺的研发,从而结束了其向摩尔定律极限的攀登。

寡头之争,三星抢用EUV工艺显急态?
寡头之争,三星抢用EUV工艺显急态?

先进半导体工艺的角逐,只剩下台积电和三星在领跑。根据三星最近公布的工艺演进路线来来看,为何该公司要抢先在今年的7nm上首家采用EUV工艺?7nm之后,三星的工艺研发又将走向何方?

张忠谋:半导体再无创新

作为IC60大师论坛的开场首讲,台积电创办人张忠谋的演说内容可说是备受注目。 现场国际级半导体大师齐坐,媒体云集,为了就是一听这位目前站在半导体市场顶峰的人,如何看待下一波的半导体创新。 而在张忠谋的眼里,创新,不光是技术而已,商业模式也是重要的一环。

三星跑的飞快,明年5/4nm EUV工艺后年3nm GAA工艺不停歇
三星跑的飞快,明年5/4nm EUV工艺后年3nm GAA工艺不停歇

随着Globalfoundries以及联电退出先进半导体工艺研发、投资,全球有能力研发7nm及以下工艺的半导体公司就只剩下英特尔、台积电及三星了,不过英特尔可以排除在代工厂之外,其他无晶圆公司可选的只有三星以及台积电了,其中台积电在7nm节点可以说大获全胜,流片的7nm芯片有50+多款。

英特尔为何放弃抢推EUV?

引领技术开发的少数芯片制造商认定,极紫外光(EUV)微影技术将在明年使得半导体元件的电晶体密度更进一步向物理极限推进,但才刚失去全球半导体产业龙头宝座的英特尔(Intel),似乎放弃了继续努力在采用EUV的脚步上领先;该公司在1990年代末期曾是第一批开始发展EUV的IC厂商。

Entegris EUV 1010光罩盒展现极低的缺陷率,已获ASML认证

业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris(纳斯达克:ENTG)日前发布了下一代EUV 1010光罩盒,用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。

国产半导体清洗设备产业深度分析
国产半导体清洗设备产业深度分析

半导体市场景气回归,单晶圆清洗机占据市场主流。根据 WSTS 数据,2017年全球半导体销售额已经超过 4000 亿美元大关,并维持高景气态势。从市场销售额来看,半导体设备作为产业链上游环节,整体的景气周期与半导体终端市场的周期基本同步,但周期性更强。

ASML第二季度业绩超预期,EUV到底有多火

2018-10-21,ASML公布了2018年第二季度业绩报告。报告指出,第二季度销售额为27.4亿欧元,净利润为5.84亿欧元,毛利率达到43.3%。

半导体最强工艺——光刻技术
半导体最强工艺——光刻技术

光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。

三星悄悄启动EUV,1ynm的DRAM内存芯片要来了?

作为DRAM芯片的龙头企业,三星目前已经能量产10nm级、最大容量16Gb的LPDDR4内存、GDDR5显存和DDR4内存等。据Digitimes引述News1 Korea报道,三星悄悄启动了引入EUV(极紫外光)光刻工艺的DRAM内存芯片研发,基于1ynm。

有了EUV续命神器,摩尔定律还能存活多久?
有了EUV续命神器,摩尔定律还能存活多久?

近日,三星公布了其半导体工艺路线图,除了今年下半年使用EUV的7nm量产之外,接下来还将有5nm和4nm FinFET,而到了2020年则会开始3nm基于Gate All-Around (GAA)晶体管的最新工艺。

喜提EUV设备,国产芯片制造挺进1x纳米以下制程

中芯国际、华力微、长江存储今年将纷纷启动进入1x纳米以下制程技术的深水区,中芯国际明年上半14纳米FinFET将风险试产,并推进7纳米研发进程;上海华力Fab6未来也将成为14纳米量产重要基地;长江存储今年首颗大陆自主研发快闪存储器芯片也将迈入量产,未来数月将进入密集装机期。

一文读懂半导体业的印钞机——EUV光刻机

这个不断触碰半导体工艺极限的定律,也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认为一种名为极紫外光刻(EUV 光刻)的技术能够拯救摩尔定律。

【他山之石】从ASML的成长看中国装备业的发展

ASML脱胎于飞利浦光刻设备研发小组。飞利浦从1971年开始,在此前开发的透镜式显影装备基础上,开发透镜式非接触光刻设备。

价格逆天的EUV,到底是个什么鬼?

为什么三星、台积电、英特尔,这三家直接竞争对手企业争相投资ASML?

长江存储/中芯国际纷纷订购EUV,这能成就中国芯之梦吗?

中兴通讯受美国政府制裁一案,为大陆高端芯片的自主拉起警报,大陆自官方到民间无不立刻加大芯片研发的投资力度。昨(21)日有消息指,长江存储与中芯国际在近日突破海外封锁,先后从荷兰艾司摩尔(ASML)公司订购了两台总值近两亿美元的高端光刻机。

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